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@MastersThesis{Pereira:2014:EsMoSu,
               author = "Pereira, L{\^a}nia Auxiliadora",
                title = "Estudo da modifica{\c{c}}{\~a}o de superf{\'{\i}}cie do 
                         a{\c{c}}o X45 CrSi 9-3, com produ{\c{c}}{\~a}o de interface, 
                         visando melhorar a ader{\^e}ncia de filmes de DLC",
               school = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
                 year = "2014",
              address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
                month = "2014-02-26",
             keywords = "Filmes finos de DLC, a{\c{c}}o X45 CrSi 9-3, ader{\^e}ncia, DLC 
                         thin films, X45 CrSi 9-3 steel, adherence.",
             abstract = "Filmes de carbono tipo diamante (\$\emph{Diamond Like Carbon}\$ 
                         - DLC) t{\^e}m atra{\'{\i}}do significativamente a 
                         aten{\c{c}}{\~a}o da comunidade cient{\'{\i}}fica e 
                         tecnol{\'o}gica em virtude das propriedades 
                         f{\'{\i}}sico-qu{\'{\i}}micas, tais como, como elevada dureza, 
                         in{\'e}rcia qu{\'{\i}}mica, baixo coeficiente de atrito, 
                         ader{\^e}ncia em substratos met{\'a}licos, que permitem 
                         aplica{\c{c}}{\~o}es nas mais diversas {\'a}reas. Por{\'e}m 
                         para atender a todas estas aplica{\c{c}}{\~o}es {\'e} 
                         primordial que os filmes de DLC tenham alta ader{\^e}ncia ao 
                         substrato. Este trabalho trata do estudo da 
                         modifica{\c{c}}{\~a}o de superf{\'{\i}}cie do a{\c{c}}o X45 
                         CrSi 9-3 apenas com {\'a}tomos de sil{\'{\i}}cio como agentes 
                         formadores de interfaces entre o substrato e os filmes de DLC. O 
                         foco deste estudo foi o processo de subimplanta{\c{c}}{\~a}o 
                         i{\^o}nica do sil{\'{\i}}cio, buscando obter uma interface com 
                         propriedades mec{\^a}nicas e tribol{\'o}gicas 
                         intermedi{\'a}rias {\`a}s do substrato e do filme de DLC, 
                         por{\'e}m com forma{\c{c}}{\~a}o de liga{\c{c}}{\~o}es 
                         qu{\'{\i}}micas fortes que garantam uma elevada ader{\^e}ncia. 
                         Para o crescimento da interface e dos filmes de DLC foi utilizada 
                         a t{\'e}cnica DC Pulsada PECVD (\$\emph{Plasma Enhanced 
                         Chemical Vapor Deposition}\$), com modifica{\c{c}}{\~o}es 
                         desenvolvidas na equipe e trazendo algumas novidades, como a 
                         utiliza{\c{c}}{\~a}o de uma tela ativa para melhorar a 
                         intensidade e uniformidade de descarga. As amostras foram 
                         caracterizadas quanto {\`a} ader{\^e}ncia, 
                         composi{\c{c}}{\~a}o qu{\'{\i}}mica, taxa de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o, raz{\~a}o I\$_{D}/I_{G}\$, 
                         hidrogena{\c{c}}{\~a}o e atrito. As t{\'e}cnicas utilizadas 
                         foram espectroscopia de espalhamento Raman, tribologia e 
                         perfilometria de contato. Para o crescimento do filme de 
                         interface, foi usado o g{\'a}s silano e para o crescimento dos 
                         filmes de DLC utilizou-se dois tipos diferentes de gases 
                         precursores, o metano e o acetileno. Os resultados mostraram que 
                         tanto a partir do precursor metano quanto do precursor acetileno 
                         {\'e} poss{\'{\i}}vel obter filmes de DLC com qualidades 
                         estruturais adequadas. Tamb{\'e}m que {\'e} poss{\'{\i}}vel 
                         depositar filmes de DLC sobre o a{\c{c}}o X45 CrSi 9-3 com boa 
                         ader{\^e}ncia e que o arranjo experimental da tela ativa 
                         proporcionou que as deposi{\c{c}}{\~o}es fossem efetuadas em 
                         press{\~o}es mais baixas o que proporcionou um maior 
                         aproveitamento da energia m{\'e}dia dos {\'{\i}}ons e 
                         beneficiou as condi{\c{c}}{\~o}es de deposi{\c{c}}{\~a}o dos 
                         filmes de DLC em regime de quase sem colis{\~o}es. ABSTRACT: 
                         Diamond-like carbon (DLC) films have attracted so much the 
                         attention of the scientific and technological community due to 
                         their very impressive physicochemical properties, such as high 
                         hardness, chemical inertness, low friction coefficient, adhesion 
                         to metallic substrates, which allow application in several areas. 
                         Nevertheless, to reach all these applications, it is essential to 
                         reach high adhesion between DLC film and substrate. In this work 
                         studies of surface modification of X45 CrSi 9-3 steel was done by 
                         using only silicon atoms as agents forming interface between 
                         substrate and DLC films. The focus of this study is the silicon 
                         ion sub-implantation process, seeking an interface with 
                         intermediary mechanical and tribological properties between 
                         substrate and DLC film, but with strong chemical bonds ensuring 
                         high adhesion. For interface and DLC films growth, it was used a 
                         modified pulsed DC PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor 
                         Deposition) technique, performed {"}in house{"}, using at the 
                         first time an active screen to improve the uniformity of discharge 
                         for DLC gorwth. The samples were characterized in terms of 
                         adhesion, chemical composition, deposition rate, I\$_{D}/I_{G}\$ 
                         ratio, hydrogenation and coefficient of friction. The techniques 
                         used were Raman scattering spectroscopy, tribology and contact 
                         profilometer. For the interface growth it was used silane gas and 
                         for the DLC film growth it was used two different precursor gases, 
                         methane and acetylene. The results showed that both precursors can 
                         be used for DLC films growth with adequate structural qualities. 
                         Also it is possible to deposit DLC films on steel X45 CrSi 9-3 
                         with good adherence and the experimental arrangement by using 
                         active screen provided better condition for deposition at lower 
                         pressures due to higher average energy of the ions in almost 
                         collisionless regime.",
            committee = "Bosco, Edson Del (presidente) and Barros, Machado. Jo{\~a}o Paulo 
                         (orientador) and Marciano, Fernanda Roberta",
         englishtitle = "Study of surface modification of X45 CrSi 9-3 Steel, with 
                         interface production, aiming to improve DLC films adherence.",
             language = "pt",
                pages = "94",
                  ibi = "8JMKD3MGP7W/3FN5BLS",
                  url = "http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP7W/3FN5BLS",
           targetfile = "publicacao.pdf",
        urlaccessdate = "05 maio 2024"
}


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